貴金屬被膜形成

燒結法的濺鍍靶材

本公司以高度的燒結技術來回應顧客的信賴。

磁記錄媒體用靶材

應用了本公司燒結技術的貴金屬薄膜材料,在以半導體及磁碟為首的各種電子產業中,獲得了極高的評價。
今後,在日漸高度化的薄膜電子工程領域中,我們也將持續以貴金屬濺鍍材料龍頭企業的身分來回應顧客的信賴。

特色

藉由讓氧化物在磁性材料中細微均勻分散的獨創製法,製造加入高品質記錄媒體用氧化物的濺鍍靶材。

  • 讓氧化物細微均勻分散的靶材不易產生顆粒,可進行穩定的濺鍍。
  • 合金組成及添加氧化物會隨著硬碟的大容量化而變得複雜。本公司則可以製造出配合這種技術趨勢的靶材。
    從試作開發品到量產階段,都可配合顧客所需的用途提供服務。
  • 自回收廢料到進行再產品化、回收附著於零件上的貴金屬,皆可提供濺鍍製程的綜合協助。

種類

靶材 純度 用途
CoCrPt-SiO2 99.9% 垂直磁性記錄膜材料
CoCrPt-TiO2
CoCrPt-Cr2O3
加入各種複合氧化物的磁性材料
鐵鉑氧化物等 99.9% 次世代垂直磁性記錄材料

*本表記載的合金組成為代表範例。關於各種合金組成及所添加之氧化物請與我們洽詢。

用途

  • 硬碟媒體(粒狀媒體)用記錄膜
靶材中的氧化物分散狀態之範例(黑點:二氧化矽、矩陣:均一性鈷鉻鉑合金)

靶材中的氧化物分散狀態之範例
(黑點:二氧化矽、矩陣:均一性鈷鉻鉑合金)

次世代非揮發性記憶體用靶材

應用了本公司卓越的溶解技術、燒結技術、再生處理技術的貴金屬薄膜材料,也被廣泛使用於半導體領域。其中,在以次世代的高速、大容量記憶體而倍受期待的MRAM(磁阻式隨機存取記憶體)領域中,本公司應用了以磁性記錄媒體用靶材所培育的製造技術,製造出高品質鐵白金類合金靶材等。

特色

利用真空溶解除氣、急冷快速凝固的細微粉末製造,而且真空加壓燒結所製造的靶材之組成分布極具均質性,不易產生顆粒,可發揮出極高的效能。

  • 藉由真空溶解技術達到極少的殘留氧量
  • 高純度(99.99%以上)、高密度,以及極高度組成均質性
  • 可配合三元、四元合金,甚至氧化物添加等各種需求

種類

靶材 純度 用途
FePt 99.99% MRAM用強磁性膜、磁頭、磁感測器
CoPt

*合金組成請與我們洽詢。

用途

MRAM及磁頭、磁感測器的磁性膜用

FePt靶材中鉑組成的均一性(以螢光X光分析之評估)

FePt靶材中鉑組成的均一性(以螢光X光分析之評估)